[发明专利]用于X射线成像中的散射校正的方法和系统有效
| 申请号： | 201210220584.4 | 申请日： | 2012-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN102846333A | 公开（公告）日： | 2013-01-02 |
| 发明（设计）人： | 吴小页;谢强;P.赛纳思;X.刘 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | A61B6/03 | 分类号： | A61B6/03;G01N23/04;G06T5/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 叶晓勇;李浩 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明的名称为用于X射线成像中的散射校正的方法和系统。公开用于使用散射X射线的反向跟踪来得出散射信息的方式。在某些实施例中，与从源进行到探测器的跟踪方案相反，跟踪从探测器上的相应位置到X射线辐射源的散射射线。在一种这样的方式中，反向跟踪使用密度积分容积来实现，这减少所执行的积分步骤。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 射线 成像 中的 散射 校正 方法 系统 | ||
【主权项】：
一种用于估计散射的方法，包括：基于从源到探测器的X射线传送来生成初始容积；基于材料类型来表征在所述初始容积中的多个体素；基于所述多个体素来生成密度积分容积；以及跟踪一个或多个散射X射线，开始于所述探测器并且朝所述源前进，以便生成所述探测器上的多个离散位置的散射轮廓。
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