[发明专利]用于等离子体应用的大面积ICP源无效
申请号: | 201210222887.X | 申请日: | 2012-05-17 |
公开(公告)号: | CN102789950A | 公开(公告)日: | 2012-11-21 |
发明(设计)人: | Y·K·赵;T·布鲁克;K·贾纳吉拉曼 | 申请(专利权)人: | 因特瓦克公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 舒雄文;蹇炜 |
地址: | 美国加*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明涉及用于为感应耦合等离子体腔室耦合RF能量的装置。RF线圈或辐射器嵌入在腔室顶篷中所形成的沟槽内并且绝缘填充物覆盖该沟槽内的线圈。顶篷可以由两个板构成:由导电材料制作的上板和由电介质材料制作的底板。这两个板物理接触。磁屏蔽物可以设置在线圈之上以控制来自线圈的磁场的传播。可以在导电板中制作流体沟道以提供热控制。而且,可以设置流体管道以允许将气体注入到金属与电介质板之间的空间中。 | ||
搜索关键词: | 用于 等离子体 应用 大面积 icp | ||
【主权项】:
一种用于感应耦合等离子体腔室的RF施加器,包括:电介质板,具有形成于其中的沟槽;RF线圈,安置于所述沟槽内;以及,绝缘树脂,设置在所述沟槽中且在所述线圈之上。
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