[发明专利]高纯铜靶材的制备方法有效
| 申请号： | 201210223059.8 | 申请日： | 2012-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN103510055A | 公开（公告）日： | 2014-01-15 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;相原俊夫;大岩一彦;潘杰;王学泽;高建 | 申请（专利权）人： | 宁波江丰电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C22F1/08 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 骆苏华 |
| 地址： | 315400 浙江省宁波市余姚*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 一种高纯铜靶材的制备方法，包括：首先对高纯铜锭进行预热；接着对所述预热过程中的高纯铜锭进行锻打之后并进行第一次热处理；然后对经第一次热处理后的高纯铜锭进行压延，形成铜板料并进行第二次热处理，形成铜靶材坯料；最后对所述铜靶材坯料进行机械加工，形成高纯铜靶材。采用本发明的技术方案，可以制作出晶粒尺寸小于100微米且溅射方向较佳的高纯铜靶材。 | ||
| 搜索关键词： | 高纯 铜靶材 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种高纯铜靶材的制备方法，其特征在于，包括：对高纯铜锭进行预热；对所述预热过程中的高纯铜锭进行锻打；对经锻打的所述高纯铜锭进行第一次热处理；对经第一次热处理后的高纯铜锭进行压延，形成铜板料；对所述铜板料进行第二次热处理，形成铜靶材坯料；对所述铜靶材坯料进行机械加工，形成高纯铜靶材。
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