[发明专利]具有通过物理气相沉积法施加的含钇涂层的涂覆的物品及其制造方法

摘要

本发明涉及具有通过物理气相沉积法施加的含钇涂层的涂覆的物品及其制造方法。一种涂覆的物品（20，100）具有一个基底（22，102）和一个涂覆方案（24，106），该涂覆方案具有一个PVD涂层区域（110）。该PVD涂层区域（110）包含铝、钇、氮以及至少一种选自下组的元素：钛、锆、铪、钒、铌、钽、铬、钼、钨和硅。铝和钇含量的总数是在铝、钇和其他元素的总数的约3原子百分比与约55原子百分比之间。钇含量是在铝、钇和其他元素的总数的约0.5原子百分比与约5原子百分比之间。还存在一种用于制造涂覆的物品（20，100）的方法，该方法包括以下步骤：提供基底（22，102），并且沉积具有该PVD涂层区域（110）的涂覆方案（24，106）。

主权项

一种涂覆的物品，包括：一个基底；一个涂覆方案；该涂覆方案包括一个通过物理气相沉积施加的PVD涂层区域，其中该涂层区域包含铝和钇和氮以及至少一种选自下组的元素，该组由以下各项组成：钛、锆、铪、钒、铌、钽、铬、钼、钨和硅；并且其中该铝和钇的含量的总数是在该铝、该钇和该其他元素总数的约3原子百分比与约55原子百分比之间，并且该钇的含量是在该铝、该钇和该其他元素的总数约0.5原子百分比与约5原子百分比之间。