[发明专利]形成取样光栅的方法以及制作激光二极管的方法

摘要

本发明公开了一种形成取样光栅的方法以及制作激光二极管的方法。形成取样光栅的方法包括下述步骤：制备衬底；制备纳米压印模具，其包括其上周期性地形成有凸起和凹陷的图案表面；制备掩模，其包括交替地设置的光遮挡部分和光透射部分；将光致抗蚀剂层和树脂部按序形成在衬底上；通过按压模具的图案表面使其与树脂部接触并且在保持接触的同时硬化树脂部来形成具有凸起和凹陷的图案化树脂部；通过利用通过掩模和图案化树脂部的曝光光来照射光致抗蚀剂层而曝光光致抗蚀剂层的一部分；通过显影光致抗蚀剂层来形成图案化光致抗蚀剂层；以及使用该图案化光致抗蚀剂层蚀刻衬底。

主权项

一种形成取样光栅的方法，包括下述步骤：制备衬底；制备纳米压印模具，所述纳米压印模具包括其上周期性地形成有凸起和凹陷的图案表面；制备掩模，所述掩模包括交替地设置在第一方向上的光遮挡部分和光透射部分；将光致抗蚀剂层和树脂部按序形成在所述衬底上；通过按压所述模具的所述图案表面使其与所述树脂部接触并且在保持接触的同时硬化所述树脂部，来形成具有凸起和凹陷的图案化树脂部，在所述树脂部上形成的所述凸起和凹陷被设置在第二方向上；通过利用通过所述掩模和所述图案化树脂部的曝光光照射所述光致抗蚀剂层，来曝光所述光致抗蚀剂层的一部分；通过显影所述光致抗蚀剂层来形成图案化光致抗蚀剂层，所述图案化光致抗蚀剂层包括形成在所述光致抗蚀剂层的所述部分上的具有凸起和凹陷的图案；以及使用所述图案化光致抗蚀剂层来蚀刻所述衬底，以形成不具有带有凸起和凹陷的图案的第一部分和具有带有凸起和凹陷的图案的第二部分，其中，在曝光所述光致抗蚀剂层的所述部分的步骤中，所述光致抗蚀剂层包括所述曝光光被所述掩模的所述光遮挡部分遮挡的第一区域和所述曝光光透射通过所述掩模的所述光透射部分的第二区域，并且所述光致抗蚀剂层的所述第二区域暴露于透射通过所述树脂部中的所述凹陷的所述曝光光，并且其中，在蚀刻所述衬底的步骤中，交替地形成所述第一部分和所述第二部分，所述第一部分对应于所述光致抗蚀剂层的所述第一区域的形状，所述第二部分对应于所述光致抗蚀剂层的所述第二区域的形状。