[发明专利]微纳结构D形光纤及制备方法与应用有效

专利信息
申请号: 201210231125.6 申请日: 2012-07-04
公开(公告)号: CN102768381A 公开(公告)日: 2012-11-07
发明(设计)人: 陆延青;林晓雯;李苏陕;钱小石;葛海雄;胡伟;徐飞 申请(专利权)人: 南京大学
主分类号: G02B6/02 分类号: G02B6/02;G02B6/024;C03C25/12
代理公司: 南京天翼专利代理有限责任公司 32112 代理人: 汤志武
地址: 210093 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 微纳结构D形光纤,所述D形光纤为一种横截面形状为字母D型,即光纤一侧为圆形面,光纤另一侧为平面或接近平面,纤芯到光纤圆形面一侧的距离(半径r)为50~200微米,平面到纤芯的距离d为5~15微米;D平面上设有凹凸图案结构,凹凸图案结构是周期0.2~15um、线宽100~1000nm、深度100~400nm的一维阵列或二维网格阵列;该光纤平面一侧有强的消逝场,易受到表面结构特征和材料性质的调控。在D形光纤表面制备微纳结构的工艺,具体为利用纳米压印技术将模板结构转移到D形光纤的平面上,通过被转移的微纳结构与D型光纤平面消逝场相互作用,使光纤内部传输的光受到调制,进而实现光传感、光调致等功能。
搜索关键词: 结构 光纤 制备 方法 应用
【主权项】:
微纳结构D形光纤,其特征是所述D形光纤为一种横截面形状为字母D型,即光纤一侧为圆形面,光纤另一侧为平面或接近平面,纤芯到光纤圆形面一侧的距离(半径r)为50~200微米,平面到纤芯的距离d为5~15微米;D平面上设有凹凸图案结构,凹凸图案结构是周期0.2~15um、线宽100~1000nm、深度100~400nm的一维阵列或二维网格阵列;该光纤平面一侧有强的消逝场,易受到表面结构特征和材料性质的调控。
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