[发明专利]低温离子镀膜装置无效
| 申请号： | 201210232408.2 | 申请日： | 2012-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN102703868A | 公开（公告）日： | 2012-10-03 |
| 发明（设计）人： | 陆世德 | 申请（专利权）人： | 肇庆市同力真空科技有限公司;陆世德 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32 |
| 代理公司： | 广州市南锋专利事务所有限公司 44228 | 代理人： | 李永庆 |
| 地址： | 526020 *** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种低温离子镀膜装置，包括真空室、工件转架和蒸发源，工作转架和蒸发源均设置在真空室内，其中在真空室内还设有离子装置，该离子装置设在工件转架的中部或外部位置上，对应蒸发源设置在真空室的周边或中部位置上；本发明的镀膜装置不仅能够同时适应合金属和非金属材料的镀膜，而且离化效率高、大大改善了膜层的附着力及膜层的稳定性和均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 低温 离子 镀膜 装置 | ||
【主权项】：
一种低温离子镀膜装置，包括真空室（1）、工件转架(2)和蒸发源（3），工作转架（2）和蒸发源（3）均设置在真空室（1）内，其特征在于：在真空室（1）内还设有离子装置（4），该离子装置（4）设置在工件转架（2）的中部位置，蒸发源（3）设置在真空室（1）内的周边位置上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于肇庆市同力真空科技有限公司;陆世德，未经肇庆市同力真空科技有限公司;陆世德许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210232408.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
