[发明专利]制造聚合物波导的方法有效
| 申请号： | 201210238921.2 | 申请日： | 2012-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN103257398A | 公开（公告）日： | 2013-08-21 |
| 发明（设计）人： | 曾俊豪;李宛谕;陈海清;包天一 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/13 | 分类号： | G02B6/13;G03F7/00;H01S5/20 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人： | 章社杲;孙征 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种制造波导器件的方法。方法包括提供具有电互连区和波导区的衬底以及在电互连区内的衬底上方形成图案化介电层和图案化再分布层(RDL)。方法还包括通过接合叠层将图案化RDL接合至垂直腔面发射激光器(VCSEL)。在波导区内的衬底中形成反射镜沟槽，并在波导区内部的反射镜区上方形成反射层。方法进一步包括在波导区内部的波隧道区中形成并图案化底覆层以及在波导区中形成并图案化芯层和顶覆层。本发明还提供了制造聚合物波导的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 聚合物 波导 方法 | ||
【主权项】：
一种制造聚合物波导器件的方法，所述方法包括：提供具有电互连区和波导区的衬底；在所述电互连区内的所述衬底上方形成图案化介电层和图案化再分布层(RDL)；通过接合叠层将所述图案化RDL接合至垂直腔面发射激光器(VCSEL)；在所述波导区内的所述衬底中形成反射镜沟槽，其中，所述波导区具有反射镜区和波隧道区；至少在所述反射镜区上方形成反射层；在所述波隧道区内形成图案化底覆层；以及在所述反射镜区内的所述反射层上方和所述波隧道区内的所述底覆层上方形成图案化芯层和图案化顶覆层。
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