[发明专利]平面射流等离子体产生装置有效
申请号: | 201210245290.7 | 申请日: | 2012-07-17 |
公开(公告)号: | CN102781157A | 公开(公告)日: | 2012-11-14 |
发明(设计)人: | 刘彦明;谢楷;李小平;赵良;艾伟;付强新 | 申请(专利权)人: | 西安电子科技大学 |
主分类号: | H05H1/46 | 分类号: | H05H1/46 |
代理公司: | 陕西电子工业专利中心 61205 | 代理人: | 王品华;朱红星 |
地址: | 710071*** | 国省代码: | 陕西;61 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种平面射流等离子体产生装置,主要解决目前射流等离子产生装置中等离子体稳定性差、温度高、面积小、密度和流速分布不均匀的问题。整个装置包括等离子体产生腔体(2)、电源装置(3)和气压调节装置(5),等离子体产生腔体(2)的左侧和右侧分别与导流装置(1)和等离子体射流腔体(4)连接;导流装置(1)的进气端和等离子体射流腔体(4)的出气端气压调节装置(5)连接,等离子体射流腔体(4)上开有电极通孔和观察窗,用于施加正交电磁二维场;电源装置(3)为等离子产生腔体(2)提供电源。本发明延长了等离子体持续时间,降低了等离子体温度,扩大了均匀等离子体的面积,可用于研究电磁场对射流等离子体的影响。 | ||
搜索关键词: | 平面 射流 等离子体 产生 装置 | ||
【主权项】:
一种平面射流等离子体产生装置,包括:等离子体产生腔体(2)、电源装置(3)和气压调节装置(5),电源装置(3)为等离子体产生腔体(2)提供电源,其特征在于:等离子体产生腔体(2)的左侧和右侧分别连接有导流装置(1)和等离子体射流腔体(4);导流装置(1)的进气端和等离子体射流腔体(4)的出气端连接有气压调节装置(5),等离子体射流腔体(4)开有电极通孔和观察窗,用于施加正交电磁二维场;气体从气压调节装置(5)充入导流装置(1),经导流装置稳流后流入到等离子体产生腔体(2)内,在等离子体产生腔体内放电产生等离子,流入到等离子体射流腔体(4)内,再通过气压调节装置(5)流出。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安电子科技大学,未经西安电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210245290.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:多功能多接口台灯
- 下一篇:小型充气加热蒸汽发电发光装置