[发明专利]平面射流等离子体产生装置有效

专利信息
申请号: 201210245290.7 申请日: 2012-07-17
公开(公告)号: CN102781157A 公开(公告)日: 2012-11-14
发明(设计)人: 刘彦明;谢楷;李小平;赵良;艾伟;付强新 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H05H1/46 分类号: H05H1/46
代理公司: 陕西电子工业专利中心 61205 代理人: 王品华;朱红星
地址: 710071*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种平面射流等离子体产生装置,主要解决目前射流等离子产生装置中等离子体稳定性差、温度高、面积小、密度和流速分布不均匀的问题。整个装置包括等离子体产生腔体(2)、电源装置(3)和气压调节装置(5),等离子体产生腔体(2)的左侧和右侧分别与导流装置(1)和等离子体射流腔体(4)连接;导流装置(1)的进气端和等离子体射流腔体(4)的出气端气压调节装置(5)连接,等离子体射流腔体(4)上开有电极通孔和观察窗,用于施加正交电磁二维场;电源装置(3)为等离子产生腔体(2)提供电源。本发明延长了等离子体持续时间,降低了等离子体温度,扩大了均匀等离子体的面积,可用于研究电磁场对射流等离子体的影响。
搜索关键词: 平面 射流 等离子体 产生 装置
【主权项】:
一种平面射流等离子体产生装置,包括:等离子体产生腔体(2)、电源装置(3)和气压调节装置(5),电源装置(3)为等离子体产生腔体(2)提供电源,其特征在于:等离子体产生腔体(2)的左侧和右侧分别连接有导流装置(1)和等离子体射流腔体(4);导流装置(1)的进气端和等离子体射流腔体(4)的出气端连接有气压调节装置(5),等离子体射流腔体(4)开有电极通孔和观察窗,用于施加正交电磁二维场;气体从气压调节装置(5)充入导流装置(1),经导流装置稳流后流入到等离子体产生腔体(2)内,在等离子体产生腔体内放电产生等离子,流入到等离子体射流腔体(4)内,再通过气压调节装置(5)流出。
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