[发明专利]一种基于莫尔条纹的反射式光刻对准装置无效
申请号: | 201210245688.0 | 申请日: | 2012-07-16 |
公开(公告)号: | CN102789137A | 公开(公告)日: | 2012-11-21 |
发明(设计)人: | 朱江平;胡松;唐燕;刘旗;何渝;邸成良 | 申请(专利权)人: | 中国科学院光电技术研究所 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 梁爱荣 |
地址: | 610209 *** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明是一种基于莫尔条纹的反射式光刻对准装置,采用适用于接近接触式光刻对准的反射式光路系统,该装置包括对准照明系统、半反半透镜、掩模板、掩模光栅标记、硅片光栅标记、硅片、位移工件台、条纹接收系统和计算机,对准照明系统将对准平行光以45°角入射到半反半透镜上,半反半透镜将对准平行光反射到掩模板上的光栅标记发生衍射,衍射光继续传播入射到硅片上的光栅标记发生衍射,从而使掩模光栅标记与硅片光栅标记叠加,反射光继续传播通过半反半透镜,条纹成像系统接收对准条纹图像,图像经过计算机分析处理获取掩模板硅片的位移关系,并实时反馈给位移工件台实现x、y两个方向的对准。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 莫尔 条纹 反射 光刻 对准 装置 | ||
【主权项】:
一种基于莫尔条纹的反射式光刻对准装置,其特征在于:该装置采用适用于接近接触式光刻对准的反射式光路系统,该装置包括对准照明系统、半反半透镜、掩模板、掩模光栅标记、硅片光栅标记、硅片、位移工件台、条纹接收系统和计算机;对准照明系统输出对准平行光;半反半透镜的反射面与对准照明系统的输出面呈45°放置,半反半透镜接收对准平行光,并输出对准反射光;掩模板的上表面与半反半透镜反射面呈45°角放置,掩模板接收半反半透镜的对准反射光,并将对准反射光在掩模光栅标记上发生衍射生成并输出第一衍射光;硅片与掩模板相互平行放置,硅片接收第一衍射光,并在硅片上的光栅标记继续发生衍射生成并输出第二衍射光,从而使掩模光栅标记与硅片光栅标记叠加生成衍射后的反射光;半反半透镜的反射面接收并继续传播的衍射后反射光,半反半透镜的透射面输出衍射后的透射光;条纹成像系统与半反半透镜的透射面呈45°角放置,用于接收衍射后的透射光,将衍射后的透射光生成并输出对准条纹图像;计算机与条纹成像系统连接,计算机对准条纹图像做分析处理,获取掩模板与硅片的位移关系,并实时反馈给位移工件台实现x、y两个方向的对准。
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