[发明专利]一种三维有序大孔Bi2WO6光催化材料的制备方法

摘要

本发明公开了一种三维有序大孔Bi2WO6光催化材料的制备方法，所述方法为模板法，包括：透明前驱体溶液的制备；块状三维有序SiO2光子晶体模板的制备；将获得的块状三维有序SiO2光子晶体模板浸入透明前驱体溶液中，于50～70℃干燥成块状固体后在氨气氛中熏蒸；在400～500℃煅烧；用碱溶液浸泡等步骤。由本发明方法获得的三维有序大孔Bi2WO6光催化材料存在光子带隙，可以更有效地吸收230nm左右的紫外光，具有显著的光催化活性，可用于降解自然条件下难降解的苯类有机污染物，具有应用前景；且本发明所述制备方法无需特殊设备和苛刻条件，工艺简单，可控性强，容易实现规模化生产，具有实用性。

主权项

一种三维有序大孔Bi2WO6光催化材料的制备方法，为模板法，其特征在于，包括如下具体步骤：a)将硝酸铋或氯化铋与磷钨酸按化学计量比溶解于乙醇与硝酸或盐酸形成的混合溶液中，搅拌使形成透明前驱体溶液；b)将单分散SiO2纳米球颗粒高速离心成块状，然后干燥，获得块状三维有序SiO2光子晶体模板；c)将步骤b)获得的块状三维有序SiO2光子晶体模板浸入步骤a)制得的透明前驱体溶液中，于50～70℃干燥成块状固体后在氨气氛中熏蒸12小时以上；d)干燥、在400～500℃煅烧，获得结晶Bi2WO6；e)用碱溶液浸泡步骤d)获得的结晶Bi2WO6，以去除其中的SiO2光子晶体模板，获得三维有序大孔Bi2WO6光催化材料。