[发明专利]可调电极间距及平行度的刻蚀腔有效
| 申请号： | 201210249414.9 | 申请日： | 2012-07-18 |
| 公开（公告）号： | CN103578903A | 公开（公告）日： | 2014-02-12 |
| 发明（设计）人： | 李顺义 | 申请（专利权）人： | 上海华虹NEC电子有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 丁纪铁 |
| 地址： | 201206 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种可调电极间距及平行度的刻蚀腔，包括；一腔体，所述腔体为圆柱形腔体；一上电极，固定安装在所述腔体的上顶面；一下电极，固定安装在所述腔体的下底面；所述腔体中设置一可变腔体，用于调节所述上下电极之间的距离与平行度。本发明能既可以做到上下电极的距离可变并且可以让上下电极的水平度坐适当调整，优化面内均匀性。可以保证直径200mm的晶圆内任意个测试点，均匀性小于2%，同时刻蚀速率没有明显变化，满足特殊制品的需要。 | ||
| 搜索关键词： | 可调 电极 间距 平行 刻蚀 | ||
【主权项】：
一种可调电极间距及平行度的刻蚀腔，包括；一腔体，所述腔体为圆柱形腔体；上电极，固定安装在所述腔体的上顶面；一下电极，固定安装在所述腔体的下底面；其特征在于：所述腔体中设置一可变腔体，用于调节所述上下电极之间的距离与平行度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华虹NEC电子有限公司，未经上海华虹NEC电子有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210249414.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种食品包装机用推板
- 下一篇：中间导向装置
