[发明专利]用于替代硬铬镀层的电沉积纳米晶钴磷合金电镀液及电镀层生产工艺无效
| 申请号： | 201210250207.5 | 申请日： | 2012-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN102732919A | 公开（公告）日： | 2012-10-17 |
| 发明（设计）人： | 王经国 | 申请（专利权）人： | 烟台星辉航空液压有限公司 |
| 主分类号： | C25D3/56 | 分类号： | C25D3/56 |
| 代理公司： | 烟台双联专利事务所(普通合伙) 37225 | 代理人： | 矫智兰 |
| 地址： | 264006 *** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明涉及用于替代硬铬镀层的电沉积纳米晶钴磷合金电镀液及电镀层生产工艺，属于电镀液及电镀层生产工艺技术领域。电沉积纳米晶钴磷合金电镀液，其特征在于：溶剂为去离子水，溶质的各组分及含量如下：钴离子20～30g/l；硼酸30～40g/l；磷酸10～50g/l，十二烷基硫酸钠0.1～0.3g/l。电沉积纳米晶钴磷合金镀层的生产工艺，包括镀件的预处理和脉冲电沉积处理过程，其特征在于所述电沉积处理过程是将经过预处理的镀件作为阴极，将钛金属作为阳极，直接置入pH值为2～3的电沉积纳米晶钴磷合金电镀液中进行单脉冲电沉积处理；电沉积工艺参数包括电沉积时间30～60min，电沉积温度30～60℃，单脉冲电流密度为3～5A/dm2,单脉冲频率50～210Hz，占空比为30～60%；最终获得粒径小于10nm的纳米晶钴磷合金镀层。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 替代 镀层 沉积 纳米 晶钴磷 合金 电镀 生产工艺 | ||
【主权项】：
电沉积纳米晶钴磷合金电镀液，其特征在于：溶剂为去离子水，溶质的各组分及含量如下：钴离子 20～30g/l；硼酸 30～40g/l；磷酸 10～50g/l，十二烷基硫酸钠 0.1～0.3g/l。
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