[发明专利]抗蚀剂组合物和用于制备抗蚀图案的方法无效
申请号: | 201210250505.4 | 申请日: | 2012-07-19 |
公开(公告)号: | CN102890406A | 公开(公告)日: | 2013-01-23 |
发明(设计)人: | 市川幸司;安江崇裕 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 李新红 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明公开了抗蚀剂组合物和用于制备抗蚀图案的方法,所述抗蚀剂组合物具有:具有由式(I)表示的结构单元的树脂,在碱性水溶液中不可溶或难溶但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液并且不包含由式(I)表示的结构单元的树脂,和酸生成剂,其中R1、A1、A13、A14、X12、R3、R4、m′和n′如说明书中限定。 | ||
搜索关键词: | 抗蚀剂 组合 用于 制备 图案 方法 | ||
【主权项】:
1.一种抗蚀剂组合物,所述抗蚀剂组合物包含:具有由式(I)表示的结构单元的树脂,在碱性水溶液中不可溶或难溶但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液并且不包含由式(I)表示的结构单元的树脂,酸生成剂,和由式(II)表示的化合物,其中R1表示氢原子或甲基;A1表示C1至C6烷二基;A13表示任选具有一个或多个卤素原子的C1至C18二价脂族烃基;X12表示*-CO-O-或*-O-CO-,*表示与A13的连接;A14表示任选具有一个或多个卤素原子的C1至C17脂族烃基;其中R3和R4每一次出现时独立地表示C1至C12烃基、C1至C6烷氧基、C2至C7酰基、C2至C7酰氧基、C2至C7烷氧基羰基、硝基或卤素原子;m′和n′独立地表示0至4的整数。
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