[发明专利]抗蚀剂组合物和用于制备抗蚀图案的方法无效

专利信息
申请号: 201210251272.X 申请日: 2012-07-19
公开(公告)号: CN103149798A 公开(公告)日: 2013-06-12
发明(设计)人: 市川幸司;增山达郎;山口训史 申请(专利权)人: 住友化学株式会社
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;G03F7/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 贺卫国
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了抗蚀剂组合物和用于制备抗蚀图案的方法,所述抗蚀剂组合物具有:具有由式(I)表示的结构单元的树脂,在碱性水溶液中不可溶或难溶但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液并且不包含由式(I)表示的结构单元的树脂,酸生成剂,和具有由式(IA)表示的阴离子的盐,其中R1、A1、A13、X12、A14、R1A和R2A如说明书中限定。
搜索关键词: 抗蚀剂 组合 用于 制备 图案 方法
【主权项】:
1.一种抗蚀剂组合物,所述抗蚀剂组合物包含:具有由式(I)表示的结构单元的树脂,在碱性水溶液中不可溶或难溶但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液并且不包含由式(I)表示的结构单元的树脂,酸生成剂,和具有由式(IA)表示的阴离子的盐,其中R1表示氢原子或甲基;A1表示C1至C6烷二基;A13表示任选具有一个或多个卤素原子的C1至C18二价脂族烃基;X12表示*-CO-O-或*-O-CO-;*表示与A13的连接;A14表示任选具有一个或多个卤素原子的C1至C17脂族烃基;其中R1A和R2A独立地表示氢原子、C1至C12脂族烃基、C3至C20脂环族烃基、C6至C20芳香族烃基或C7至C21芳烷基,在所述脂族烃基、所述脂环族烃基、所述芳香族烃基和所述芳烷基中所含有的一个或多个氢原子可以被羟基、氰基、氟原子、三氟甲基或硝基代替,在所述脂族烃基中所含有的一个或多个-CH2-可以被-O-或-CO-代替;或R1A和R2A可以连接以形成至少一个含有氮原子的C4至C20环。
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