[发明专利]真空产生装置及其方法无效

专利信息
申请号: 201210254733.9 申请日: 2012-07-20
公开(公告)号: CN103573580A 公开(公告)日: 2014-02-12
发明(设计)人: 李国正 申请(专利权)人: 友达光电股份有限公司
主分类号: F04B37/14 分类号: F04B37/14
代理公司: 北京维澳专利代理有限公司 11252 代理人: 马佑平;王立民
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明系有关于一种真空产生装置及其方法,包括工作腔体、第一真空产生部、阀体与第二真空产生部。阀体具有进气腔、排气腔与止回阀,第一真空产生部的一端连接至工作腔体,另一端连接至进气腔,止回阀配置于进气腔与排气腔之间,排气腔连接至排气口。第二真空产生部具有真空产生单元与压缩空气单元,真空产生单元具有进气管、排气管与旁通管,进气管连接压缩空气单元,排气管连接排气腔,旁通管连接进气腔。藉由第二真空产生部的辅助,可减少第一真空产生部的功耗,达到节能省电的功效。
搜索关键词: 真空 产生 装置 及其 方法
【主权项】:
一种真空产生装置,包括:一工作腔体;一第一真空产生部,具有一第一端与一第二端,该第一端连接至该工作腔体;一阀体,具有一进气腔、一排气腔与一止回阀,该进气腔连接该第二端,该止回阀配置于该进气腔与该排气腔之间,该排气腔连接至一排气口;以及一第二真空产生部,具有一真空产生单元与一压缩空气单元,该真空产生单元具有一进气管、一排气管与一旁通管,该进气管连接该压缩空气单元,该排气管连接该排气腔,该旁通管连接该进气腔。
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