[发明专利]发光元件的转移方法以及发光元件阵列有效
| 申请号： | 201210258044.5 | 申请日： | 2012-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN102903804A | 公开（公告）日： | 2013-01-30 |
| 发明（设计）人： | 叶文勇;赵嘉信;吴明宪;戴光佑 | 申请（专利权）人： | 财团法人工业技术研究院 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00;H01L27/15 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 宋焰琴 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种发光元件的转移方法，其包括：在第一衬底上形成多个阵列排列的发光元件，各发光元件包括元件层以及牺牲图案，且牺牲图案位于元件层与第一衬底之间；在第一衬底上形成保护层以选择性地覆盖部分的发光元件，其中部分的发光元件未被保护层所覆盖；令未被保护层所覆盖的元件层与第二衬底接合；以及移除未被保护层所覆盖的牺牲图案，以使部分的元件层与第一衬底分离而转移至第二衬底上。 | ||
| 搜索关键词： | 发光 元件 转移 方法 以及 阵列 | ||
【主权项】：
一种发光元件的转移方法，包括：在第一衬底上形成多个阵列排列的发光元件，各发光元件包括元件层以及牺牲图案，且该牺牲图案位于该元件层与该第一衬底之间；在该第一衬底上形成保护层以选择性地覆盖部分的发光元件，其中部分的发光元件未被该保护层所覆盖；令未被该保护层所覆盖的元件层与第二衬底接合；以及移除未被该保护层所覆盖的牺牲图案，以使部分的元件层与该第一衬底分离而转移至该第二衬底上。
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