[发明专利]光掩模及曝光装置

摘要

本发明提供一种光掩模及曝光装置。光掩模(9)在同一掩模基板(10)上将掩模图案不同的多种图案区域(11)按照其中心轴相互平行的方式排列设置，并具备：在与各所述图案区域(11)的所述中心轴交叉的方向上，在与各中心轴偏离一定距离的位置处，分别按照纵长中心轴与所述中心轴平行的方式设置的细长状的多个开口部(12)；和在各所述开口部(12)内分别为了辨别所述掩模图案而设置的、与所述纵长中心轴交叉的至少一条细线状的辨别用标记(13)，将各所述开口部(12)内的辨别用标记(13)分别设置在各所述开口部(12)的纵长中心轴上的不同位置。

主权项

一种光掩模，具有在掩模基板上将多个掩模图案至少排成一列而形成的图案区域，所述光掩模的特征在于，具备：在与所述多个掩模图案的排列方向交叉的方向上，在与所述图案区域的中心轴偏离一定距离的位置处，按照纵长中心轴与所述中心轴平行的方式设置的细长状的开口部；和在所述开口部内为了将所述掩模图案与其他掩模基板上形成的不同种类的掩模图案辨别开而设置的、与所述纵长中心轴交叉的至少一条细线状的辨别用标记，将所述辨别用标记设置在所述开口部的纵长中心轴上的与所述不同种类的掩模图案的辨别用标记不同的位置。