[发明专利]电感耦合等离子体处理设备有效
| 申请号： | 201210265954.6 | 申请日： | 2012-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN103578905A | 公开（公告）日： | 2014-02-12 |
| 发明（设计）人： | 佘清;吕铀 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 宋合成;黄德海 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种电感耦合等离子体处理设备，包括：具有介质盖的反应腔室；射频线圈，所述射频线圈通过线圈支撑装置安装在所述介质盖上方，用于将射频能量感应耦合至所述反应腔室中以在所述反应腔室中产生并维持等离子体；和晶片支撑装置，用于支撑晶片，其中所述射频线圈与所述晶片支撑装置间的距离通过调整所述射频线圈在所述线圈支撑装置上的位置进行调节。本发明提供的电感耦合等离子体处理设备，射频线圈在线圈支撑装置上的位置为可调，从而可调节射频线圈与晶片之间的距离，增大了工艺窗口，通过调节射频线圈与晶片之间的距离，可改变到达晶片表面的等离子体的分布，进而改善晶片的工艺处理效果。 | ||
| 搜索关键词： | 电感 耦合 等离子体 处理 设备 | ||
【主权项】：
一种电感耦合等离子体处理设备，其特征在于，包括：具有介质盖的反应腔室；射频线圈，所述射频线圈通过线圈支撑装置安装在所述介质盖上方，用于将射频能量感应耦合至所述反应腔室中以在所述反应腔室中产生并维持等离子体；和晶片支撑装置，用于支撑晶片，其中所述射频线圈与所述晶片支撑装置间的距离通过调整所述射频线圈在所述线圈支撑装置上的位置进行调节。
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