[发明专利]具有光学层的耐冲击装置无效

专利信息
申请号: 201210266564.0 申请日: 2012-07-30
公开(公告)号: CN102903335A 公开(公告)日: 2013-01-30
发明(设计)人: L.M.博滕;M.A.J.H.J.谢勒肯斯;E.范维南达尔;H.E.A.休伊特马 申请(专利权)人: 聚合物视象有限公司
主分类号: G09G3/34 分类号: G09G3/34;H01L31/048
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 史新宏
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 一种具有光学层的耐冲击装置。该耐冲击装置包括一光学层及一电子层。一可挠薄片构件包括前述光学层及电子层,以及一背板构件利用机械式接触的方式设置于可挠薄片构件的背面。背板构件包括一可变型材料,具有一临界范围内的粘滞响应,其中临界范围是由来自正面的一冲击造成可挠薄片构件的压力临界值以及拉力临界值所定义,当未达到压力临界值及拉力临界值时,前述光学层与电子层不会发生破损。
搜索关键词: 具有 光学 冲击 装置
【主权项】:
一种耐冲击薄片装置,包括:一光学层;一电子层,可控制该光学层且形成该光学层的一连接接口;其中该光学层及该电子层组成一可挠薄片构件的至少一部分,且该可挠薄片构件具有一压力临界值σcritical及一拉力临界值εcritical,当未达到该压力临界值σcritical及该拉力临界值εcritical时,该光学层与该电子层不会发生破损;以及一背板构件,以机械性接触的方式设置于该可挠薄片构件的一第二面,该第二面相反于该耐冲击薄片装置的一第一面;其中,该背板构件包括一可变形材料,具有一临界范围内的一粘滞响应,该临界范围是由来自该第一面的一冲击造成的该压力临界值σcritical及该拉力临界值εcritical所定义,该临界范围的上极限定义为,当受到该冲击造成该背板构件变形时,必须使得施加于该可挠薄片构件上的压力要低于该压力临界值σcritical;而下极限的定义则是,该背板构件的变形量要保持在一最大变形量的范围内,以避免该可挠薄片构件因过度延展而超出该拉力临界值εcritical,藉此能够允许大部分的冲击能量通过该背板构件的该粘滞响应来消散。
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