[发明专利]校准光学相干断层成像系统的方法有效
| 申请号： | 201210269037.5 | 申请日： | 2008-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN102783937A | 公开（公告）日： | 2012-11-21 |
| 发明（设计）人： | 克里斯托弗·彼得森;史蒂芬·M·麦卡廷;约瑟夫·M·斯密特;乔尔·M·弗里德曼 | 申请（专利权）人： | 光学实验室成像公司 |
| 主分类号： | A61B5/00 | 分类号： | A61B5/00;G02B23/24;A61B1/05 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 李丙林;张英 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及一种校准光学相干断层成像系统的方法，所述方法包括：响应由样品反射的光而产生扫描数据，所述反射的光穿过基本透明的弯曲罩，所述基本透明的弯曲罩形成成像探针的一部分；响应从设置在所述基本透明的弯曲罩中的多个背散射颗粒散射的光而产生参考数据；以及响应所述参考数据来校准所述光学相干断层成像系统以确定随后光学相干断层成像扫描的相对位置。 | ||
| 搜索关键词： | 校准 光学 相干 断层 成像 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种校准光学相干断层成像系统的方法，所述方法包括：响应由样品反射的光而产生扫描数据，所述反射的光穿过基本透明的弯曲罩，所述基本透明的弯曲罩形成成像探针的一部分；响应从设置在所述基本透明的弯曲罩中的多个背散射颗粒散射的光而产生参考数据；以及响应所述参考数据来校准所述光学相干断层成像系统以确定随后光学相干断层成像扫描的相对位置。
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