[发明专利]透射X射线分析装置及方法有效

专利信息
申请号: 201210274472.7 申请日: 2012-08-03
公开(公告)号: CN102954973A 公开(公告)日: 2013-03-06
发明(设计)人: 的场吉毅 申请(专利权)人: 精工电子纳米科技有限公司
主分类号: G01N23/04 分类号: G01N23/04
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 何欣亭;李浩
地址: 日本千叶*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种透射X射线分析装置及方法,能够在使用TDI传感器检测试料的透射X射线像之际,容易且大范围地调节TDI传感器的累加级数。本透射X射线分析装置(1)检测对既定的扫描方向(L)上相对移动的试料(100)的透射X射线像进行检测,具备:时间延迟积分式的TDI传感器(14),以2维状具备多个读取将由来于透射X射线像的图像光电转换而生成的电荷的摄像元件,该TDI传感器在扫描方向上多级排列线性传感器(14a~14h),该线性传感器中摄像元件沿与扫描方向垂直的方向排列,将积累在一个线性传感器中的电荷转移到邻接的下一个线性传感器;遮蔽装置(21),配置于TDI传感器和试料之间,沿扫描方向前进后退而遮蔽入射到TDI传感器的图像的一部分;遮蔽装置位置控制装置(60),控制遮蔽装置的位置以遮蔽既定级数的线性传感器。
搜索关键词: 透射 射线 分析 装置 方法
【主权项】:
一种透射X射线分析装置,对既定的扫描方向上相对移动的试料的透射X射线像进行检测,其中具备:时间延迟积分式的TDI传感器,以2维状具备多个读取将由来于所述透射X射线像的图像光电转换而生成的电荷的摄像元件,该TDI传感器在所述扫描方向上多级排列线性传感器,该线性传感器中所述摄像元件沿与所述扫描方向垂直的方向排列,将积累在一个线性传感器中的电荷转移到邻接的下一个线性传感器;遮蔽装置,配置于所述TDI传感器和所述试料之间,沿扫描方向前进后退而遮蔽入射到所述TDI传感器的所述图像的一部分;以及遮蔽装置位置控制装置,控制所述遮蔽装置的位置以遮蔽既定级数的所述线性传感器。
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