[发明专利]用于刻蚀工艺前清洁腔室的装置及方法有效
| 申请号： | 201210276324.9 | 申请日： | 2012-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN102814305A | 公开（公告）日： | 2012-12-12 |
| 发明（设计）人： | 丁向前;孙亮;白金超;李梁梁;刘耀 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 王莹 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及阵列基板生产工艺中干法刻蚀工艺技术领域，公开了一种用于刻蚀工艺前清洁基板的装置，所述装置为一腔室，包括腔室本体，用于放置和传递基板。本发明还提供了一种刻蚀工艺前清洁基板的方法。本发明所设计的装置可以用于在干法刻蚀之前对其腔室本身内部环境进行清洁，最大程度上清除颗粒污染对阵列基板性能可能会造成的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 刻蚀 工艺 清洁 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种用于刻蚀工艺前清洁基板的装置，其特征在于，所述装置为一腔室，包括腔室本体，用于放置和传递基板。
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