[发明专利]一种液晶显示装置、彩膜基板及其制造方法有效
| 申请号： | 201210279833.7 | 申请日： | 2012-08-07 |
| 公开（公告）号： | CN102809849A | 公开（公告）日： | 2012-12-05 |
| 发明（设计）人： | 黎敏;吴洪江;张继凯;万冀豫;姜晶晶 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02F1/1339;G02B5/20;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供一种液晶显示装置、彩膜基板及其制造方法，涉及液晶显示技术领域，可以对隔垫物的质量和位置进行精确地管控，提高液晶显示器产品的质量。制造方法包括：在透明基板上形成黑色膜层；通过构图工艺处理，使所述黑色膜层形成包括彩膜区域和隔垫物区域的黑矩阵膜层；其中，所述隔垫物区域的底部全部或部分露出所述透明基板，和/或，所述隔垫物区域的底部膜层的厚度小于所述黑矩阵膜层的厚度；通过构图工艺处理在所述黑矩阵膜层的所述彩膜区域形成彩膜；通过构图工艺处理在所述黑矩阵膜层的所述隔垫物区域形成隔垫物。本发明实施例用于制造液晶显示器。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 液晶 显示装置 彩膜基板 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种彩膜基板的制造方法，其特征在于，包括：在透明基板上形成黑色膜层；通过构图工艺处理，使所述黑色膜层形成包括彩膜区域和隔垫物区域的黑矩阵膜层；其中，所述隔垫物区域的底部全部或部分露出所述透明基板，和/或，所述隔垫物区域的底部膜层的厚度小于所述黑矩阵膜层的厚度；通过构图工艺处理在所述黑矩阵膜层的所述彩膜区域形成彩膜；通过构图工艺处理在所述黑矩阵膜层的所述隔垫物区域形成隔垫物。
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