[发明专利]衬底台组件、浸没光刻设备以及器件制造方法有效
| 申请号： | 201210280770.7 | 申请日： | 2012-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN102955372A | 公开（公告）日： | 2013-03-06 |
| 发明（设计）人： | J·G·C·昆尼;J·H·W·雅各布斯;M·霍本;T·S·M·劳伦特;F·J·J·范鲍克斯台尔;S·C·R·德尔克斯;S·N·L·唐德斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种衬底台组件、浸没光刻设备以及器件制造方法。所述衬底台组件包括：衬底台，用以支撑衬底；和气体处理系统，用以将气体提供至衬底台与安装在衬底台上的衬底之间的区域，其中由气体处理系统提供的气体的热导率在298K的条件下大于或等于100mW/(m.K)。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 组件 浸没 光刻 设备 以及 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种用于浸没光刻设备的衬底台组件，包括：衬底台，用以支撑衬底；和气体处理系统，用以将气体提供至衬底台与安装在衬底台上的衬底之间的区域，其中由气体处理系统提供的气体的热导率在298K的条件下大于或等于100mW/(m.K)，其中由气体处理系统提供的气体包括H2。
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