[发明专利]一写多读式存储器件及其制造方法无效
申请号: | 201210283311.4 | 申请日: | 2012-08-09 |
公开(公告)号: | CN102810635A | 公开(公告)日: | 2012-12-05 |
发明(设计)人: | 袁方;张志刚;潘立阳;许军 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | H01L45/00 | 分类号: | H01L45/00 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 张大威 |
地址: | 100084 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种一写多读式存储器件及其制造方法。该存储器件包括:上电极;下电极;和形成在所述上电极和下电极之间的高k介质层。其中,所述高k介质层即为存储信息的物理层。根据本发明实施例的一写多读式存储器件具有良好的存储性能,并且其制备方法的每一步骤均是半导体领域成熟的工艺,兼容性高,适合大批量生产。 | ||
搜索关键词: | 一写多读式 存储 器件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种一写多读式存储器件,包括:上电极;下电极;和形成在所述上电极和下电极之间的高k介质层。
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