[发明专利]用于多层体积光线投射的方法、系统和装置有效
申请号: | 201210283919.7 | 申请日: | 2012-08-10 |
公开(公告)号: | CN103150749B | 公开(公告)日: | 2017-03-01 |
发明(设计)人: | 李维 | 申请(专利权)人: | 西门子公司 |
主分类号: | G06T15/06 | 分类号: | G06T15/06;G06T17/30 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 马永利,刘春元 |
地址: | 美国新*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及多层体积光线投射中的浮动感兴趣体积。一种方法,其包括接收网格的顶点(601),其中所述网格表示来自原始体积的感兴趣体积(VOI);对所述网格施行变换操作(602/603),其中所述变换操作变换所述网格的顶点;利用经过变换的顶点获得原始体积的采样位置(604/605);对采样位置和网格的经过变换的顶点施行逆变换(606);以及对原始体积施行光线投射以便产生图像(607),其中所述光线投射使用所述经过变换的顶点和所述逆变换的结果作为输入。 | ||
搜索关键词: | 用于 多层 体积 光线 投射 方法 系统 装置 | ||
【主权项】:
一种用于多层体积光线投射的方法,包括:接收网格的顶点,其中所述网格表示来自原始体积的感兴趣体积;对所述网格施行变换操作,其中所述变换操作变换所述网格的顶点,其中所述网格的经过变换的顶点能处于三维空间内的任何位置,使得在光线层缓冲区生成中所使用的边界框考虑经过变换的顶点;利用经过变换的顶点获得原始体积的采样位置;对采样位置和网格的经过变换的顶点施行逆变换;剪掉的感兴趣体积在用于创建光线层缓冲区的每一趟深度剥离中被绘制两次,第一次是作为静态感兴趣体积,而第二次是作为浮动感兴趣体积;以及一旦创建了光线层缓冲区,就对原始体积施行光线投射以便产生图像,其中所述光线投射使用所述经过变换的顶点和所述逆变换的结果来定义对应于感兴趣体积内部的区域的光线段的经过变换的起始位置。
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