[发明专利]BST薄膜经时击穿的调控方法无效
申请号: | 201210284424.6 | 申请日: | 2012-08-10 |
公开(公告)号: | CN102820420A | 公开(公告)日: | 2012-12-12 |
发明(设计)人: | 吴传贵;蔡光强;罗文博;彭强祥;孙翔宇;柯淋;张万里;王小川 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | H01L37/02 | 分类号: | H01L37/02 |
代理公司: | 成都惠迪专利事务所 51215 | 代理人: | 刘勋 |
地址: | 610000 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | BST薄膜经时击穿的调控方法,属于电子元器件技术领域,本发明包括下述步骤:A、将带有BST薄膜的双电容结构的一个输入电极接地;B、对另一个输入电极施加方波偏压。本发明可以保持BST热释电红外探测器工作在较稳定的漏电流状态下,不会影响器件的可靠性。 | ||
搜索关键词: | bst 薄膜 击穿 调控 方法 | ||
【主权项】:
BST薄膜经时击穿的调控方法,其特征在于,包括下述步骤:A、将带有BST薄膜的双电容结构的一个输入电极接地;B、对另一个输入电极施加方波偏压。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于电子科技大学,未经电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210284424.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:具有五防联锁装置的开关柜
- 下一篇:一种动画素材组织和应用的方法