[发明专利]一种汞标准气发生装置

摘要

本发明公开了一种汞标准气发生装置，包括用于存储汞源的汞源蒸发腔体以及包围于其外部的温控腔体，还包括具有制冷功能的制冷腔体，温控腔体置于制冷腔体的内腔，上述三腔体的内腔彼此隔离，且汞源蒸发腔体的进口管和出口管穿过温控腔体和制冷腔室连通外部气体管路；该汞标准气发生装置中温控腔体置于具有制冷功能的制冷腔体的内腔，这样就可以将温控腔体的温度降低至温控调节所需的最低温度以下温度，实现低温控制，以满足温控调节的需求，提高对汞源蒸发腔体内温控调节的精度，满足的浓度汞标准气稀释要求，同时扩大了汞标准气发生装置的适用范围。

主权项

一种汞标准气发生装置，包括用于存储汞源的汞源蒸发腔体(D)以及包围于其外部的温控腔体(C)，其特征在于，还包括具有制冷功能的制冷腔体(B)，所述温控腔体(C)置于所述制冷腔体(B)的内腔，上述三腔体的内腔彼此隔离，且所述汞源蒸发腔体(D)的进口管(A)和出口管(E)穿过所述温控腔体(C)和所述制冷腔室连通外部气体管路。