[发明专利]流体处理结构、光刻设备以及器件制造方法有效
| 申请号： | 201210285340.4 | 申请日： | 2012-08-06 |
| 公开（公告）号： | CN102914948A | 公开（公告）日： | 2013-02-06 |
| 发明（设计）人： | D·贝斯塞蒙斯;E·H·E·C·奥姆梅伦;R·H·M·考蒂;A·J·贝藤;M·里彭;C·M·诺普斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了流体处理结构、光刻设备和器件制造方法。用于光刻设备的流体处理结构在配置成将浸没流体限制于流体处理结构外部的区域的空间边界处具有：弯液面钉扎特征，用于抑制浸没流体沿径向向外的方向从所述空间通过；气体供给开口，所述气体供给开口至少部分地围绕弯液面钉扎特征并位于弯液面钉扎特征的径向外部；和可选的气体回收开口，所述气体回收开口位于气体供给开口的径向外部，其中气体供给开口、或气体回收开口、或气体供给开口和气体回收开口两者，在所述空间的周边每米长度的开口面积具有变化。 | ||
| 搜索关键词： | 流体 处理 结构 光刻 设备 以及 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种用于光刻设备的流体处理结构，所述流体处理结构在配置成将浸没流体限制于流体处理结构外部的区域的空间边界处具有：弯液面钉扎特征，用于抑制浸没流体沿径向向外的方向从所述空间通过；气体供给开口，所述气体供给开口至少部分地围绕弯液面钉扎特征并位于弯液面钉扎特征的径向外部；和可选的气体回收开口，所述气体回收开口位于气体供给开口的径向外部，其中气体供给开口、或气体回收开口、或气体供给开口和气体回收开口两者，在所述空间的周边每米长度的开口面积具有变化。
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