[发明专利]灰阶掩膜版及利用其形成的柱状隔垫物无效
申请号: | 201210285671.8 | 申请日: | 2012-08-10 |
公开(公告)号: | CN102819181A | 公开(公告)日: | 2012-12-12 |
发明(设计)人: | 吴洪江;黎敏;查长军 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/32 | 分类号: | G03F1/32;G02F1/1339 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 李娟 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种灰阶掩膜版及利用其形成的柱状隔垫物,所述灰阶掩膜版包括透明衬底和形成于其上的遮光层,所述遮光层包括部分曝光区,所述部分曝光区包括多个透光孔,所述多个透光孔均匀分布;或所述部分曝光区包括曝光开口和位于曝光开口内的多个遮光区,所述多个遮光区均匀分布。利用其形成的柱状隔垫物,部分曝光区下形成的柱状隔垫物的上表面是凹凸不平的。本发明的灰阶掩膜版的成本比传统的灰阶掩膜版低,利用其形成的柱状隔垫物有利于防止薄膜晶体管阵列基板和彩色滤光片基板的相对位移,且为液晶层提供范围较大的液晶层上下限区间。 | ||
搜索关键词: | 灰阶掩膜版 利用 形成 柱状 隔垫物 | ||
【主权项】:
一种灰阶掩膜版,包括透明衬底和形成于其上的遮光层,其特征在于,所述遮光层包括部分曝光区,所述部分曝光区包括多个透光孔,所述多个透光孔均匀分布。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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