[发明专利]在离子注入器中调节离子束平行的方法和设备有效
| 申请号： | 201210287489.6 | 申请日： | 2002-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN102915899A | 公开（公告）日： | 2013-02-06 |
| 发明（设计）人： | 约瑟夫·C·奥利桑;安东尼·丽奥 | 申请（专利权）人： | 瓦里安半导体设备联合公司 |
| 主分类号： | H01J37/141 | 分类号： | H01J37/141;H01J37/317;H01L21/265 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 郎晓虹;李春晖 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供了在离子注入器中调节离子束平行的方法和设备。一种在工件中注入离子的方法包括：产生离子束；将离子束调节到平面中的所需的平行度；测定所述平面中的所调节的离子束的离子束方向；绕垂直于所述平面的轴线将工件倾斜到相对于所测定的离子束方向的注入角度；以及对倾斜到注入角度的工件实施注入。 | ||
| 搜索关键词： | 离子 注入 调节 离子束 平行 方法 设备 | ||
【主权项】：
一种在工件中注入离子的方法，包括以下步骤：产生离子束；将离子束调节到平面中的所需的平行度；测定所述平面中的所调节的离子束的离子束方向；绕垂直于所述平面的轴线将工件倾斜到相对于所测定的离子束方向的注入角度；以及对倾斜到注入角度的工件实施注入。
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