[发明专利]软X射线遮光膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201210289501.7 | 申请日： | 2012-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN102779558A | 公开（公告）日： | 2012-11-14 |
| 发明（设计）人： | 陈田祥;胡渭;孙庆荣;陈勇;李晓军 | 申请（专利权）人： | 中国科学院高能物理研究所 |
| 主分类号： | G21F1/12 | 分类号： | G21F1/12;G21F1/00 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 冯志云;郑特强 |
| 地址： | 100049 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种软X射线遮光膜，包括高分子材料薄膜、支撑网及铝层，其中，所述支撑网设置于所述高分子材料薄膜上，所述铝层包覆在所述高分子材料薄膜及支撑网表面上。该软X射线遮光膜覆盖有铝膜，可仅透过软X射线而阻止其它光线，且具有良好的力学性能。本发明同时还提供了该软X射线遮光膜的制备方法。 | ||
| 搜索关键词： | 射线 遮光 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种软X射线遮光膜，其特征在于，包括高分子材料薄膜、支撑网及铝层，其中，所述支撑网设置于所述高分子材料薄膜上，所述铝层包覆在所述高分子材料薄膜及支撑网表面上。
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