[发明专利]硅杯凹槽结构热释电厚膜探测器的制备方法无效

专利信息
申请号: 201210290319.3 申请日: 2012-08-15
公开(公告)号: CN102820421A 公开(公告)日: 2012-12-12
发明(设计)人: 吴传贵;陈冲;彭强祥;曹家强;罗文博;帅垚;张万里;王小川 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01L37/02 分类号: H01L37/02;G01J5/10
代理公司: 成都惠迪专利事务所 51215 代理人: 刘勋
地址: 610000 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 硅杯凹槽结构热释电厚膜探测器,属于电子材料与元器件技术领域。本发明包括上表面设有凹槽的硅衬底、底电极和上电极,凹槽内填充有热释电厚膜材料,底电极通过凹槽侧壁引出,所述硅衬底上表面与设置有底电极的凹槽侧壁的夹角为钝角。本发明有利于提高厚膜的质量和探测器的成品率,使热释电厚膜探测器获得良好的性能。
搜索关键词: 凹槽 结构 热释电厚膜 探测器 制备 方法
【主权项】:
硅杯凹槽结构热释电厚膜探测器,包括上表面设有凹槽的硅衬底[201]、底电极[203]和上电极[205],凹槽内填充有热释电厚膜材料[204],底电极[203]通过凹槽侧壁引出,其特征在于,所述硅衬底[201]上表面与设置有底电极[203]的凹槽侧壁的夹角为钝角。
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