[发明专利]一种高效精确的通用软阴影生成方法有效
申请号: | 201210293436.5 | 申请日: | 2012-08-16 |
公开(公告)号: | CN102831634A | 公开(公告)日: | 2012-12-19 |
发明(设计)人: | 王莉莉;王泽;石裕隆;郝爱民 | 申请(专利权)人: | 北京航空航天大学 |
主分类号: | G06T15/60 | 分类号: | G06T15/60 |
代理公司: | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人: | 杨学明;贾玉忠 |
地址: | 100191*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提出一种高效精确的通用软阴影生成方法,该方法的框架流程包括以下三个部分:绘制视点下的场景,将每个采样像素的三维坐标信息绘制到一张浮点纹理中;在每个被采样的像素点处设置一个朝向面光源四边形的斜相机,把可能在此相机视景体内的场景三角形进光栅化,得到该采样点对光源的可见度信息,进而得出此采样点的阴影值;在视点下应用前一步骤生成的阴影值再绘制一遍场景,将绘制结果输出到屏幕即可。本方法支持动态面光源、动态可变形场景且无须预计算,具有逼真高效通用等优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 高效 精确 通用 阴影 生成 方法 | ||
【主权项】:
一种高效精确的通用软阴影生成方法,其特征在于:包括如下步骤:步骤(1)、从视点位置光栅化绘制整个场景,将每个像素点采样到的三维坐标信息绘制到浮点纹理(I0I1)中;步骤(2)、使用基于CUDA的硬件加速方法计算所述的浮点纹理(I0I1)中每个像素对应阴影值;具体分成以下三步:(a)为所述的浮点纹理(I0I1)中每个采样像素点(P)判断并且存储与之存在或者可能存在遮挡关系的场景三角形集合;(b)在每个被采样的像素点(P)处设置一个朝向面光源四边形的斜相机,再把与每个被采样的像素点(P)关联的三角形进光栅化绘制到斜相机的成像平面上,得到该采样点对光源的可见度的位图掩码表;(c)对步骤(b)中生成的位图掩码表进行归约计算,进而得出此采样点的阴影值;步骤(3)、应用步骤(2)生成的阴影值创建阴影纹理贴图,从视点位置再绘制一遍场景,使用Phong光照模型结合阴影纹理贴图计算场景的光照信息,将绘制结果输出到屏幕即可。
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