[发明专利]一种用于浸入式仪表的测量通道自清洗装置无效

专利信息
申请号: 201210296712.3 申请日: 2012-08-20
公开(公告)号: CN103630154A 公开(公告)日: 2014-03-12
发明(设计)人: 李宏 申请(专利权)人: 杭州希玛诺光电技术有限公司
主分类号: G01D11/00 分类号: G01D11/00;B08B3/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 310013 浙江省杭州市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种浸入于不可压缩液态流体介质中的测量仪表的无源自清洗装置,用于自动清除仪表测量通道在长期工作时附着的颗粒状干扰物。该装置包括,具有双向梯形内部结构的测量通道1位于浸入式仪表外壳2内部,并在其两个侧面开口,分别作为流体介质的入口4和出口5。测量通道1在入口4和出口5处具有最大内径,然后逐渐收窄于其中部具有最小内径的测量敏感区3。测量仪表工作时,被测量的流体介质从入口4流入,从出口5流出,由于液态介质的不可压缩性,流过测量通道1的最狭窄处时其流速加快,产生的冲刷力对测量敏感区3起到自清洗作用,且该清洗作用无需外部能源驱动。本发明可用于各种液态流体介质的浸入式仪表测量通道的无源自清洗。
搜索关键词: 一种 用于 浸入 仪表 测量 通道 清洗 装置
【主权项】:
一种用于浸入式仪表测量通道的无源自清洗装置,由液态流体介质测量通道1、浸入式仪表外壳2和测量敏感区3组成,其特征在于仪表外壳2全部浸没于液态流体介质内,测量通道1位于仪表外壳2的内部,并在仪表外壳2的两个侧面开口,流体介质在测量通道1内单向流动,由安装于测量敏感区3的任意敏感元件完成测量作用。
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