[发明专利]偏振保持平面光波光路及制备方法有效
| 申请号： | 201210297039.5 | 申请日： | 2012-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN102890308A | 公开（公告）日： | 2013-01-23 |
| 发明（设计）人： | 孙小菡;蒋卫锋;柏宁丰;胥爱民;鲁仲明 | 申请（专利权）人： | 东南大学;南京华脉科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/126 | 分类号： | G02B6/126;G02B6/13 |
| 代理公司： | 南京天翼专利代理有限责任公司 32112 | 代理人： | 汤志武 |
| 地址： | 210096*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及偏振保持平面光波光路及制备方法，属于集成光电子器件技术领域。偏振保持平面光波光路结构包括衬底、缓冲层、芯层和覆盖层，在缓冲层内设有折射率不同于的第一柱体阵列；或者在覆盖层内设有第二柱体阵列。所述柱体阵列由平行排列的柱体构成，该结构可以为空心玻璃毛细管、实心玻璃毛细管、空心方形柱或者实心方形柱，由此结构构成的平面光波光路具有高双折射效应，可有效地解决在平面光波光路中传输光波偏振相关问题。本发明易于实现，工艺成熟和半导体工艺兼容性好，为实现光通信、传感、光子系统中高性能光信号处理芯片或器件奠定了基础。 | ||
| 搜索关键词： | 偏振 保持 平面 波光 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种偏振保持平面光波光路，包括衬底（1），在衬底（1）上设有缓冲层（2），在缓冲层（2）上设有波导芯层结构（3），在波导芯层结构（3）和缓冲层（2）上铺设有二氧化硅覆盖层（4），其特征在于，在缓冲层（2）内设有折射率不同于缓冲层（2）的第一柱体阵列，所述的第一柱体阵列由平行排列的柱体（5）构成。
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