[发明专利]成像光学系统、投射曝光设备、微结构部件及其产生方法有效
| 申请号： | 201210297391.9 | 申请日： | 2008-10-02 |
| 公开（公告）号： | CN102819197A | 公开（公告）日： | 2012-12-12 |
| 发明（设计）人： | 汉斯-于尔根.曼 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B17/06 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 吴艳 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明提供了一种成像光学系统（7）、包括该成像光学系统的微光刻投射曝光设备、以及采用所述微光刻投射曝光设备产生微结构的部件的方法。所述成像光学系统包括多个镜（M1至M8；M1至M6）。所述多个镜将物平面（5）中的物场（4）成像到像平面（9）中的像场（8）。镜（M6、M7、M8；M4、M5、M6）的至少一个包括供成像光（15）经过的通孔（21）。在所述物平面（5）和所述像平面（9）之间存在至少一个中间像平面（20，23；27）。最接近像平面（9）的中间像平面（23；27）在物场（4）和像场（8）之间的光路中空间上设置于所述光路中的最后镜（M8；M6）和像平面（9）之间。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 光学系统 投射 曝光 设备 微结构 部件 及其 产生 方法 | ||
【主权项】：
成像光学系统（7），包括多个镜（M1至M8；M1至M6），其将物平面（5）中的物场（4）成像到像平面（9）中的像场（8），镜（M6、M7、M8；M4、M5、M6）的至少一个包括供成像光（15）经过的通孔（21），在所述物平面（5）和所述像平面（9）之间存在至少一个中间像平面（20，23；27），其特征在于，最接近像平面（9）的中间像平面（23；27）在物场（4）和像场（8）之间的光路中空间上设置于所述光路中的最后镜（M8；M6）和像平面（9）之间。
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