[发明专利]位置测量系统、光刻设备以及器件制造方法

摘要

本发明公开了位置测量系统、光刻设备和器件制造方法。所述位置测量系统包括：第一部分和第二部分，用于通过提供表示第一部分相对于第二部分的位置的位置信号来确定第一构件相对于第二构件的位置；和计算单元，包括用于接收所述位置信号的输入端子。所述计算单元配置成在使用时对位置信号应用转换以获得表示第一构件相对于第二构件的位置的信号，和对所述转换应用调整以至少部分地补偿第一部分或第二部分或第一部分和第二部分两者的漂移。所述调整是分别基于第一部分或第二部分或第一部分和第二部分两者的预定的漂移特性。所述预定的漂移特性包括第一部分和/或第二部分的一个或多个基础形状。

主权项

一种位置测量系统，包括：第一部分和第二部分，所述第一部分和第二部分配置成通过提供表示第一部分相对于第二部分的位置的位置信号来确定第一构件相对于第二构件的位置；和计算单元，包括配置成接收所述位置信号的输入端子，所述计算单元配置成在使用时对位置信号应用转换以获得表示第一构件相对于第二构件的位置的信号，以及配置成对所述转换应用调整以至少部分地补偿第一部分或第二部分或第一部分和第二部分两者的漂移，其中所述调整是分别基于第一部分或第二部分或第一部分和第二部分两者的预定的漂移特性，和其中所述预定的漂移特性包括第一部分或第二部分或第一部分和第二部分两者的一个或多个基础形状。