[发明专利]用于确定重叠误差的方法和设备有效
| 申请号： | 201210308690.8 | 申请日： | 2012-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN102967997A | 公开（公告）日： | 2013-03-13 |
| 发明（设计）人： | A·J·登博夫 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01M11/02 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于确定由诸如不对称等结构缺陷带来的重叠误差的方法和设备。所述方法包括：测量包括第一结构和第二结构的第一目标的散射性质；使用所测量的散射性质重构第一结构的模型，该模型包括对应第一结构的第一模型结构；通过使第一模型结构与中间模型结构重叠来修正所述模型；通过用对应第二结构的第二模型结构替换中间模型结构来进一步修正所述模型；计算第一模型结构与第二模型结构之间的第二缺陷引入的重叠误差，第一和第二模型结构在进一步被修正的模型中相对于彼此被重叠；和使用所计算的第二缺陷引入的重叠误差确定第二目标中的重叠误差。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 确定 重叠 误差 方法 设备 | ||
【主权项】：
一种确定重叠误差的方法，所述方法包括步骤：‑测量包括第一结构和第二结构的第一目标的散射性质；‑使用所测量的散射性质重构第一结构的模型，所述模型包括对应所述第一结构的第一模型结构；‑通过将第一模型结构与中间模型结构重叠来修正所述模型；‑计算被修正的模型中的第一模型结构与中间模型结构之间的第一缺陷引入的重叠误差；‑通过用对应第二结构的第二模型结构替换中间模型结构来进一步修正所述模型；‑计算第一模型结构和第二模型结构之间的第二缺陷引入的重叠误差，第一和第二模型结构在进一步被修正的模型中相对于彼此被重叠；和‑使用所计算的第二缺陷引入的重叠误差确定第二目标中的重叠误差。
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