[发明专利]透明膜用组合物、透明膜的形成方法和透明膜有效

专利信息
申请号: 201210308808.7 申请日: 2012-08-27
公开(公告)号: CN102964837A 公开(公告)日: 2013-03-13
发明(设计)人: 山田谷德纪;泽田佳宏;增岛正宏;岛谷聪 申请(专利权)人: 东京应化工业株式会社
主分类号: C08L83/04 分类号: C08L83/04;C08J5/18;H01L23/29
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 蒋亭
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供能够对经高温烧成而形成的透明膜赋予良好的抗裂性和透明性的技术。一种透明膜用组合物,所述透明膜经500℃以上的高温烧成而形成,所述组合物含有将下述通式(1)表示的第1烷氧基硅烷和下述通式(2)表示的第2烷氧基硅烷作为起始原料的缩合生成物(A)、和有机溶剂(B),直接键与缩合生成物(A)中的硅原子键和的甲基相对于缩合生成物(A)的含量为15~25%。(CH3)nSi(OR1)4-n (1)[通式(1)中,R1是碳原子数1~5的烷基。n是1或2的整数。多个(OR1)可以相同、也可以不同。]Si(OR2)4 (2)[通式(2)中,R2是碳原子数1~5的烷基。多个(OR2)可以相同、也可以不同]。
搜索关键词: 透明 组合 形成 方法
【主权项】:
一种透明膜用组合物,其特征在于,所述透明膜经500℃以上的高温烧成而形成,其中,所述组合物含有将下述通式(1)表示的第1烷氧基硅烷和下述通式(2)表示的第2烷氧基硅烷作为起始原料的缩合生成物A、和有机溶剂B,直接与缩合生成物A中的硅原子键合的甲基相对于所述缩合生成物A的含量为15~25%,(CH3)nSi(OR1)4‑n    (1)通式(1)中,R1是碳原子数1~5的烷基,n是1或2的整数,多个(OR1)可以相同或不同,Si(OR2)4           (2)通式(2)中,R2是碳原子数1~5的烷基,多个(OR2)可以相同或不同。
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