[发明专利]刻划装置

摘要

本发明是有关于一种在前一次刻划后，下一次刻划时不受残留冷媒影响的刻划装置。本发明的刻划装置A具备工作台(1)、刻划头(9)、及使刻划头(9)相对工作台(1)移动的移动机构(6、8、M)；刻划头(9)具备激光照射部(10)，其对工作台(1)上的脆性材料基板W照射激光光束，形成作为加热区域的激光点；及冷媒喷射部(11)，其朝向激光点的移动方向的后方位置喷射包含液体的冷媒，形成作为冷却区域的冷却点；沿着基板W假定的刻划预定线使激光点及冷却点依序移动，形成热应力的刻划线；刻划头(9)进一步具备朝向激光点的移动方向前方位置喷射气体的气体喷射部(12)。

主权项

一种刻划装置，具备：工作台，其载置脆性材料基板；刻划头，其对该脆性材料基板进行加热及冷却；及移动机构，其使该刻划头相对该工作台移动；该刻划头具备：激光照射部，其对该工作台上的脆性材料基板照射激光光束，形成作为加热区域的激光点；及冷媒喷射部，其朝向该激光点的移动方向后方位置喷射包含液体的冷媒，形成作为冷却区域的冷却点；沿着该基板假定的刻划预定线，使该激光点及该冷却点依序移动，形成热应力的刻划线；其特征在于：该刻划头进一步具备朝向该激光点的移动方向前方位置喷射气体的气体喷射部。