[发明专利]基板处理装置及具有其的基板处理系统有效
| 申请号： | 201210310555.7 | 申请日： | 2012-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN102969214A | 公开（公告）日： | 2013-03-13 |
| 发明（设计）人： | 张锡弼;魏奎镕;金亨俊;白春金;朴海允 | 申请（专利权）人： | 圆益IPS股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京青松知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11384 | 代理人： | 郑青松;孙枫 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明是关于基板处理装置，更详细地说是关于向基板照射离子束来执行基板处理的基板处理装置，与具有其的基本处理系统。本发明公开的基板处理装置，其特征在于包括：工序室，设置有移送路径来移送安置有一个以上基板的托盘；一个以上的离子束照射部，对根据所述移送路径移送过来的基板照射离子束。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 具有 系统 | ||
【主权项】：
一种基板处理装置，其特征在于，包括：工序室，设置有移送路径来移送安置有一个以上基板的托盘；一个以上的离子束照射部，对根据所述移送路径移送过来的基板照射离子束。
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