[发明专利]一种VD真空炉屏蔽炉盖无效
| 申请号： | 201210310745.9 | 申请日： | 2012-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN102851458A | 公开（公告）日： | 2013-01-02 |
| 发明（设计）人： | 韩伦杰;张峰;赵建 | 申请（专利权）人： | 芜湖新兴铸管有限责任公司 |
| 主分类号： | C21C7/10 | 分类号： | C21C7/10 |
| 代理公司： | 芜湖安汇知识产权代理有限公司 34107 | 代理人： | 张小虹 |
| 地址： | 241002 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种VD真空炉屏蔽炉盖，设有由钢材制成的炉盖壳体（1）及屏蔽盖钢圈（5），还包括耐材屏蔽层，在所述的炉盖壳体（1）的内表面，设有挂料钉（3），其特征在于：所述的炉盖壳体（1）上设有一个观察孔（4），该观察孔（4）位于炉盖壳体（1）的圆锥面上。采用上述技术方案，改变了VD屏蔽炉盖的结构，更有效地保护了真空炉盖，同时减少了钢水对屏蔽炉盖内壁的冲刷点，延长了炉盖的过钢炉次；在维修进行更换过程中，杜绝了因用力过大致使部分耐材掉的现象。减少维修更换炉盖的时间，提高了工作效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 vd 真空炉 屏蔽 | ||
【主权项】：
一种VD真空炉屏蔽炉盖，所述的VD真空炉屏蔽炉盖设有由钢材制成的炉盖壳体（1）及屏蔽盖钢圈（5），还包括耐材屏蔽层，在所述的炉盖壳体（1）的内表面，设有挂料钉（3），其特征在于：所述的炉盖壳体（1）上设有一个观察孔（4），该观察孔（4）位于炉盖壳体（1）的圆锥面上。
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