[发明专利]用于光刻设备的水平传感器布置、光刻设备及器件制造方法

摘要

本发明公开了用于光刻设备的水平传感器布置、光刻设备以及器件制造方法。进一步地，本发明公开了一种测量光刻设备中的衬底上的至少一个大体反射性层表面的位置的方法以及相关的水平传感器和光刻设备。所述方法包括使用宽带光源执行至少两次干涉测量。在每一次测量之间，改变宽带源束的构成波长和/或在构成波长上的强度水平，使得在仅强度水平变化的情况下，对于束的构成波长的至少一部分所述强度变化不同。替换地，也可以应用单次测量和测量的随后的用以获得测量数据的处理(其中构成波长和/或在构成波长上的强度水平不同)以获得位置。

主权项

一种测量光刻设备中的衬底上的至少一个大体反射性层表面的位置的方法，所述方法包括执行下列步骤至少两次：a)提供宽带源辐射束，b)通过分别将宽带源束的一部分反射离开部分透明光学元件并且使宽带源束的一部分通过部分透明光学元件，而将宽带源束分成参照束和测量束；c)使测量束反射离开衬底以获得反射的测量束，并且使参照束反射离开反射表面以获得反射的参照束；d)结合反射的测量束和反射的参照束；和e)检测结合束的至少两个不同的干涉图案；其中不同的干涉图案是基于具有不同构成波长和/或在构成波长上具有不同的强度水平的结合束，使得在仅强度水平变化的情况下，对于束的构成波长的至少一部分所述强度变化不同。