[发明专利]产生浮雕图象的方法有效
申请号: | 201210311213.7 | 申请日: | 2005-04-06 |
公开(公告)号: | CN102944972A | 公开(公告)日: | 2013-02-27 |
发明(设计)人: | M.阿利;D.布朗;E.福伦坎;M.赫勒 | 申请(专利权)人: | 伊斯曼柯达公司 |
主分类号: | G03F1/62 | 分类号: | G03F1/62;G03F7/20 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 张萍;杨思捷 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明涉及用于产生浮雕图象的方法。一种包含载体片材和可成象材料的薄膜用于形成对固化辐射不透明的遮蔽图象。在一个实施方案中,所述遮蔽图象在载体片材上形成,而在另一个实施方案中,所述遮蔽图象在接收体片材上形成。然后所述遮蔽图象转印至感光材料例如柔性版印刷板前体。所生成的组合曝光于固化辐射产生感光材料的曝光和非曝光区域。所述载体片材或接收体片材可在曝光于固化辐射之前或之后自所述遮蔽图象除去。最后,所述感光材料和遮蔽图象组合用合适的显影剂显影形成浮雕图象。 | ||
搜索关键词: | 产生 浮雕 图象 方法 | ||
【主权项】:
一种组合,其包含(a)包含配置在载体片材上的遮蔽图象的薄膜,所述遮蔽图象得自可成象材料;以及接近所述薄膜,(b)感光材料,其包含对固化辐射敏感的层,所述遮蔽图象相对于粘合到所述载体片材更多地粘合到所述感光材料。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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