[发明专利]用于基板处理腔室的冷却遮蔽件

摘要

本发明提供一种处理套组（200），所述处理套组（200）包含上遮蔽件（201a），用以环绕住基板处理腔室（100）中的溅射靶材（140），以减少工艺沉积物沉积在腔室部件及基板悬伸边缘上。所叙述的遮蔽件为单一结构，所述单一结构具有在外表面（220）上的顶环（216）、支撑支架（226）和具有多个阶梯（223）的圆筒状箍（214），以及具有在内表面（219）上的倾斜平面（221a）和垂直平面（221b）。顶环包括具有拱形表面的径向向内凸块（217），该拱形表面塑造成可以环绕该溅射靶材的倾斜外围边缘。

主权项

一种下遮蔽件，所述下遮蔽件用以在基板处理腔室中设置在上遮蔽件和基板支撑件的周围，所述基板支撑件具有外围边缘，所述下遮蔽件包括：(a)环形箍，所述环形箍向下延伸出曲形接合部；以及(b)内凸唇部，所述内凸唇部从所述曲形接合部水平地延伸出，所述内凸唇部包含径向向内边缘，且所述径向向内边缘至少部分地环绕着所述基板支撑件的所述外围边缘。