[发明专利]图形化蓝宝石基板再生方法无效
申请号: | 201210311752.0 | 申请日: | 2012-08-29 |
公开(公告)号: | CN103633201A | 公开(公告)日: | 2014-03-12 |
发明(设计)人: | 张简庆华 | 申请(专利权)人: | 晶翰光电材料股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/02 | 分类号: | H01L33/02 |
代理公司: | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人: | 胡福恒 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 发明提供一种图形化蓝宝石基板再生方法,主要以高温对蓝宝石基板进行烘烤,之后沉浸于强碱的腐蚀液中去除在蓝宝石基板上的磊晶层,透过清洗与干燥之后,再以强酸的腐蚀液对蓝宝石基板冲洗,以去除蓝宝石基板的图形化表面残留的磊晶层微粒,经再次清洗与干燥之后,完成图形化蓝宝石基板再生,藉此构成本发明。利用本发明的方法回收再生的蓝宝石基板,可将图形化表面残留的磊晶层微粒较完整地去除,故相较于习用的回收再生方法而言可提升蓝宝石基板回收再生的良率,且相较于习知以蚀刻方法回收再生而言,可相对地以较快速而有效率的方法进行制程,能有效地提升蓝宝石基板回收再生的产能。 | ||
搜索关键词: | 图形 蓝宝石 再生 方法 | ||
【主权项】:
一种图形化蓝宝石基板再生方法,其特征在于:其包括以下步骤:烘烤:利用950℃至1500℃的温度对蓝宝石基板进行烘烤,初步去除在蓝宝石基板上的磊晶层;强碱沉浸:将烘烤后的蓝宝石基板沉浸于强碱的腐蚀液中,进一步去除在蓝宝石基板上的磊晶层;第一次清洗:对蓝宝石基板进行第一次清洗,以洗净强碱的腐蚀液;第一次干燥:蓝宝石基板经清洗后,进行第一次干燥;强酸冲洗:将干燥后的蓝宝石基板以强酸的腐蚀液加以冲洗,以去除在蓝宝石基板的图形化表面残留的磊晶层微粒;第二次清洗:对蓝宝石基板进行第二次清洗,以洗净强酸的腐蚀液;第二次干燥:蓝宝石基板经清洗后,进行第二次干燥。
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