[发明专利]使用具有聚酰亚胺气体分离膜的勃姆石粘合层的系统和方法无效
| 申请号： | 201210314296.5 | 申请日： | 2012-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN102961973A | 公开（公告）日： | 2013-03-13 |
| 发明（设计）人： | K.A.波利什楚克 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | B01D69/12 | 分类号： | B01D69/12;B01D71/64;B01D71/02;B01D67/00;B01D53/22 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 孔青;林森 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本文公开的主题涉及气体分离膜，并且更特别地涉及聚酰亚胺气体分离膜。在一个实施方案中，气体分离膜(10)包括多孔基底(32,34)、基本上连续的聚酰亚胺膜层(38)和布置在多孔基底与聚酰亚胺膜层之间以形成粘合层(36)的一层或更多层勃姆石纳米颗粒。配置粘合层(36)以改进聚酰亚胺膜层(38)与多孔基底(32,34)之间的粘附，并且聚酰亚胺膜层(38)具有约100nm或者更小的厚度(48)。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 具有 聚酰亚胺 气体 分离 勃姆石 粘合 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种气体分离膜(10)，其包括：多孔基底(32, 34)；基本上连续的聚酰亚胺膜层(38)；和一层或更多层勃姆石纳米颗粒，其布置在多孔基底(32, 34)与聚酰亚胺膜层(38)之间以形成粘合层(36)，其中聚酰亚胺膜层(38)具有约100 nm或者更小的厚度(48)。
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