[发明专利]氮化物半导体元件有效
申请号: | 201210315907.8 | 申请日: | 2012-08-30 |
公开(公告)号: | CN103325828A | 公开(公告)日: | 2013-09-25 |
发明(设计)人: | 斋藤涉;齐藤泰伸;藤本英俊;吉冈启;大野哲也;仲敏行 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/20 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 陈萍 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 根据1个实施方式,氮化物半导体元件具备:导电性基板;第1氮化物半导体层,直接或经由缓冲层设在导电性基板之上,由无掺杂的氮化物半导体构成;第2氮化物半导体层,设在第1氮化物半导体层之上,由具有比第1氮化物半导体层大的带隙的无掺杂或n型的氮化物半导体构成;异质结场效应晶体管,具有源电极、漏电极及栅电极;肖特基势垒二极管,具有阳电极及阴电极;第1及第2元件分离绝缘层;框架电极。该框架电极与源电极及导电性基板电连接,将异质结场效应晶体管及肖特基势垒二极管的外周包围。 | ||
搜索关键词: | 氮化物 半导体 元件 | ||
【主权项】:
一种氮化物半导体元件,具备:导电性基板;第1氮化物半导体层,直接或经由缓冲层设在上述导电性基板的上表面上,并且由无掺杂的氮化物半导体构成;第2氮化物半导体层,设在上述第1氮化物半导体层之上,并且由具有比上述第1氮化物半导体层大的带隙的无掺杂或n型的氮化物半导体构成;第1异质结场效应晶体管,具有:第1源电极,设在上述第2氮化物半导体层之上,并且与上述第2氮化物半导体层形成欧姆接合;第1漏电极,设在上述第2氮化物半导体层之上,并且与上述第2氮化物半导体层形成欧姆接合;和第1栅电极,设在上述第1源电极与上述第1漏电极之间,并且控制在上述第1氮化物半导体层与上述第2氮化物半导体层的界面处产生的二维电子气体的浓度;第1肖特基势垒二极管,具有:第1阳电极,设在上述第2氮化物半导体层之上,并与上述第2氮化物半导体层形成肖特基接合,并且与上述第1漏电极电连接;和第1阴电极,设在上述第2氮化物半导体层之上,并且与上述第2氮化物半导体层形成欧姆接合;第1元件分离绝缘层,设在从上述第1漏电极与上述第1阳电极之间的上述第2氮化物半导体层的上表面到上述第1氮化物半导体层的中途为止;第2元件分离绝缘层,设在从上述第1源电极与上述第1阴电极之间的上述第2氮化物半导体层的上表面到上述第1氮化物半导体层的中途为止;以及框架电极,与上述第1源电极及上述导电性基板电连接,并且将上述第1异质结场效应晶体管及上述第1肖特基势垒二极管的外周包围。
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